半导体原子级技术服务_沉积镀膜选择性刻蚀离子注入平坦化抛光

无损音乐伤清洁

自己的无损音乐伤洗掉技术工艺按照电子层级团簇束流，够在8寸晶圆上面除晶圆手工制造期间中的納米级顆粒、肯定氧化物层、金属制环境破坏、设计物等钙镁离子。

超浅部亚铁离子吸取

超深部亚铁阴阳离子释放服务管理可变现亚5 nm超深部亚铁阴阳离子释放，鉴别率可以达到0.6 nm，能靶向的控制释放深层次、溶液浓度和地理分布。该技能而言增强半导体芯片结合用电线路芯片的功效不可或缺性，可以有效率调节机电特征，具备意式结合用电线路对高功效和高相对密度的供需。

抉择性刻蚀

该精准服务推动了对不一样的文件的决定性刻蚀，可对不一样的文件微组成采取小而精的专业化化补救，推动无掩模图面化。

设备上升贴心服务

要根据用户的其他的业务需求和适用科技领域，给予个性时尚化的技術工作方案，确保安全生产机系统可满足需要最学术前沿的成果转化或化工适用的规定要求。

分子级十分平整光滑化

我们的的氧分子结构级出不平化系统能够将的材料外观解决至氧分子结构行政级别的出不平度，Ra<0.5 nm，不平值高，为随后流程给予比较好的底材。

电子层级形成

水分子级沉积物状能帮您精确度高操控水分子，最薄可沉积物状单水分子的纤薄膜。该技术水平能提升很好的三维图像保形性，能提升高高低不平性、衔接性，还符合于区别款式的肌底。

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